关于离子注入有点困惑

huang1986 · 发表于 2011-9-26 13:54:18

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离子注入是将高能带电原子或分子直接掺入衬底的工艺。如果向衬底注入磷离子？注入后衬底硅岂不是带负电？小弟很是困惑，请大侠们帮忙解惑。谢谢！

yshmilyou · 发表于 2011-9-26 15:45:59

衬底是导电的，会有电子流入或者流出，这样就电中性了

huang1986 · 发表于 2011-9-27 10:24:23

回复 2# yshmilyou

谢谢您的回复，你的意思是离子注入的时候衬底是接地的？还是所有工艺流程做完后再将衬底接地？
还有离子注入时，我看很多资料上写的提供杂质离子的离子源多为 B2H6 和 PH3，那注入衬底时的磷离子和硼离子分别是带多少电荷的？我感觉电离后的磷离子应该是带-3价，而硼离子是+3价，但是有些资料上些的是p— 和B+，有点不明白，还请您讲讲。谢谢。

yshmilyou · 发表于 2011-9-27 14:13:01

不知道机台是怎样的
应该是要在注入时形成电回路
否则等注入完再放电的话，能量积攒的比较多，有一定风险

具体离子源是和制程相关的
在0.25以下，多用P，B，BF3，
这时候基本是P-，B+，BF2+，大多是一价离子源

我不是做制程的的，也是问的别人

huang1986 · 发表于 2011-9-28 15:24:54

回复 4# yshmilyou

非常感谢您的回复

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