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[求助] 关于mismatch和process的蒙特卡洛MC仿真

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发表于 昨天 21:04 | 显示全部楼层 |阅读模式

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主要有两个疑问点,诚心请教各位前辈

1.mismatch和process的区别到底是什么样的,我目前的理解是:mismatch是指一块芯片里面的device2device的差异。而process是指芯片之间的差异,比如die2die,wafer2wafer,batch2batch等等。

2.我使用ADE Exploer 进行mc仿真的时候,virtuoso只能仿真process的变化,结果正常,但似乎无法读取mismatch相关的信息,只要变量选择mismatch,仿真点全部落在一条竖线上,这是怎么回事?是不是我用的模型文件有问题?
发表于 3 小时前 | 显示全部楼层
你是smic?smic好像确实只能process
发表于 3 小时前 | 显示全部楼层
mismatch是同一颗die上,device to device的区别
process corner代表不同wafer之间的corner差异。

仿真要看到mismatch,首先你得有mismatch model,model中对vth之类的参数做高斯函数的正态分布。要验证就先放两个mos管,同样bias条件下看参数有没有区别能不能出来正态分布
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