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[讨论] vco中摆幅过大会导致相噪恶化的原因?

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发表于 2024-12-3 09:55:25 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请问一下各位大佬,在电压偏置型vco设计中,会有相噪随着摆幅的增大,先变好后恶化的现象。相噪随着摆幅的增大而变好的现象可以用lesson公式解释,但为什么继续增大摆幅噪声会恶化?

针对这个问题我查阅了相关资料,给出了两个解释,一个是非线性效应,当摆幅增大到一定程度后,mos管进入线性区,这会导致信号的非线性失真,从而使相噪恶化。另一个是谐振腔的Q值,摆幅过大会降低谐振腔的Q值,从而使得相噪恶化。请问这两种解释哪一个是合理的?
对于第一点,影响相噪是在波形的过零点附近,不是波峰和波谷附近,在摆幅位于过零点附近时,两个管子都处于饱和区而非线性区,这与第一点有点矛盾,不清楚我的理解哪里有问题?对于第二点,如何仿真谐振腔的Q值?以及如何仿真不同摆幅对谐振腔Q值的影响?
如果上述两个解释有问题,那么正确的解释是什么?
发表于 2024-12-3 11:41:04 | 显示全部楼层
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发表于 2024-12-3 17:56:42 | 显示全部楼层
这个我之前也遇到过,我感觉是摆幅过大进入深线性区了,导通那个mos管等价于几十欧姆的小电阻,降低了Tank的Q值
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 楼主| 发表于 2024-12-4 11:00:33 | 显示全部楼层


   
RenYu123 发表于 2024-12-3 17:56
这个我之前也遇到过,我感觉是摆幅过大进入深线性区了,导通那个mos管等价于几十欧姆的小电阻,降低了Tank ...


请问一下,您说的进入深线性区的管子是交叉耦合管吗?我理解 tank的Q是由电容电感决定的,Q值的公式中也只有电容电感的参数,没有交叉耦合管的相关参数(gm、ro...),为什么交叉耦合管进入深线性区会降低tank的Q值?
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发表于 2025-7-24 21:59:09 | 显示全部楼层
随着摆幅进一步增大,晶体管深线性区的时间和程度不断增加,等效成一个小电阻,导致Tank内的能量泄放到低,从而降低Tank Q值,在Lesson公式里面,Q降低1倍,PN恶化3dB,这个Q值降低对PN的恶化和信号波峰波谷还是过零点没关系,因为ISF是量化噪声到PN的传递函数的。至于Tank Q值仿真,可以用Z11的3dB估计,或者分别仿真电感、电容Q值,并联一下。
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发表于 4 天前 | 显示全部楼层
1. 假如是在current limited region 观察到的这种情况,那就是群里老哥说的,更大的摆幅会增大管子在deep triode的时间,when the transistor is in deep triode, rds is small, loading the tank,导致LC tank的能量泄露Q降低,因此相噪降低
2.假如已经摆幅比较大了在voltage limited region,那就可能是关于reliability的问题,大的摆幅对gate source oxide造成不良影响
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