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[求助] TSMCN28 Layout Rules请教(SRAM)

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发表于 2024-7-26 11:40:09 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 JekinBrown 于 2024-7-26 12:20 编辑

1. TSMCN28 HPCP工艺中的SRAM版图规则中有一个名为RODMY的规则,见图一图二;没有太理解这个rule的意义和作用;
2. 在TSMC Memory Compiler的SRAM的版图中,有长方形的Contact,也就是对缩小尺寸至关重要的“M0”,如图三;这个长方形通孔的相关规则在TSMC CLDR002和CLCL054文档中我并没有查到;
2. 同样在TSMC Memory Compiler的SRAM的版图中,有层号为30;21与30;22的Layer,对应名称分别为CO_TESTB和CO_TESTC,显然都是Contact相关的,这两个特殊的Contact覆盖/部分覆盖了SRAM的栅到有源区的特殊Contact,如图四;这两层的作用和规则在TSMC CLDR002和CLCL054文档中我并没有查到;

望各位不吝赐教!




图一:手册中的介绍

图一:手册中的介绍

图二:版图中的效果

图二:版图中的效果

图三

图三

图四

图四
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