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本人正在查看 功函数提取相关的论文。
有两篇论文没有检索到,还请各位帮忙看下能否找到这两篇论文
【1】G. Brown, G. Smith, J. Saulters, K. Matthews, H. C. Wen, P. Majhi, and B. H. Lee, “An improved methodology for gate electrode work function extraction in SiO2 and high-k gate stack systems using terraced oxide structures,” in Proc. IEEE SISC Conf., 2004, p. 15.
【2】 H. N. Alshareef, Z. Zhang, P. Majhi, G. Brown, P. Zeitzoff, H. Huff, and B. H. Lee, “Gate electrode development for dual metalgate CMOS applications,” Future Fab, vol. 19, no. 20, pp. 91–93,Jun. 2005.
多谢!!!
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