目前设计电路时为了更好的性能和结构的可拓展性,MOSFET的版图调工艺库中最简单的nch_mac,自己添加衬底连接和互连结构,但是在仿真时没法像工艺库自带模型那样直接print出gm/Vth/……等参数,咨询别人说要自己在版图中添加探测点,然后output->to be saved,进行保存,那么请问这个探测点一般怎么加呢?保存探测点的数据后是否要在calculator中通过公式来计算这些参数,还是要搭建特定的testbench来测定?
另:工艺库中自带的模型仿真速度很快,是因为他们转化成了如ASCII码的文件吗?还是进行了calibre文件数据压缩?有类似的方法可以缩短自画MOS管的仿真时间吗?
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