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[求助] HCI效应

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发表于 2023-7-25 19:46:19 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请问一下各位友友,MOS管的HCI会导致衬底电压升高,寄生NPN开启,雪崩击穿也可以导致衬底电压升高,寄生NPN开启,这个咋区分呢?

发表于 2023-7-26 09:34:21 | 显示全部楼层
NPN开启的电压不一样。 HCI的NPN开启电压要低很多。雪崩击穿导致的NPN开启一般会稍微高于雪崩电压。
 楼主| 发表于 2023-7-26 14:42:17 | 显示全部楼层


fei_SH 发表于 2023-7-26 09:34
NPN开启的电压不一样。 HCI的NPN开启电压要低很多。雪崩击穿导致的NPN开启一般会稍微高于雪崩电压。 ...


还想请教一下,我有这个疑惑的原因是看了几篇文章,有讲利用Isub双峰优化亚微米LDMOS晶体管的安全工作区,然后会出现snap-back现象,不知道我这样理解是否对,HCI和雪崩击穿都会出现snap-back,HCI只会使器件degrade,不会立刻损坏。雪崩击穿后snap-back发生二次击穿,器件直接损坏了。还有就是LDMOS和MOS管关于这个问题是否有不同呢?
发表于 2023-7-26 15:25:31 | 显示全部楼层


xiaoli_wu 发表于 2023-7-26 14:42
还想请教一下,我有这个疑惑的原因是看了几篇文章,有讲利用Isub双峰优化亚微米LDMOS晶体管的安全工作区 ...


你要理解snapback是因为寄生BJT开启了,BJT开启是因为提供了足够的Isub。 Isub可以是HCI效应提供,也可以是由于雪崩击穿来提供。

Isub足够了,就会发生snapback。没有经过ESD设计,发生snapback器件一般就坏了。
单纯的HCI,是指的器件的退化,是可靠性问题,是不会马上坏的。LDMOS的HCI和CMOS的HCI基本原理是一样的,不过LDMOS有时候Isub是单峰,更多的时候是双峰。MOS只有单峰。  snapback来说LDMOS和MOS原理上是一样的。
 楼主| 发表于 2023-7-26 19:03:42 | 显示全部楼层


fei_SH 发表于 2023-7-26 15:25
你要理解snapback是因为寄生BJT开启了,BJT开启是因为提供了足够的Isub。 Isub可以是HCI效应提供,也可以 ...


我看解释都是讲snap-back机理是kirk effect,但是我怎么感觉看起来更像BVceo 二次击穿
发表于 2023-7-27 08:50:25 | 显示全部楼层


xiaoli_wu 发表于 2023-7-26 19:03
我看解释都是讲snap-back机理是kirk effect,但是我怎么感觉看起来更像BVceo 二次击穿 ...


各种效应是物理上的原理,NPN开启是过程,snapback是现象。统一的啊
 楼主| 发表于 2023-7-27 16:15:14 | 显示全部楼层


fei_SH 发表于 2023-7-27 08:50
各种效应是物理上的原理,NPN开启是过程,snapback是现象。统一的啊


非常感谢您,感觉好像理解了!!!我看论文时候各种情况混一起导致特别混乱,然后纠结了很久论文里提到的那个snap-back解释说不是BVceo effect,是Kirk effect,成功把自己绕晕了
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