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查看: 8442|回复: 16

[求助] 确定一个管子W、finger、mul,有哪些考量?

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发表于 2021-3-24 15:18:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
100资产
TSMC 22nm工艺设定total width 为1.2um,分为4种组合仿真:
1,W=1.2um,finger=1,mul=1;
2,  W=0.12um, finger=10, mul=1;
3,  W=0.12um, finger=1, mul=10;
4,  W=0.6um,  finger=2, mul=1。
VG,VD,VS偏置均相同。仿真所得的vth,ids均不同,如下图。

我清楚对于具体电路应该具体分析,但是现在想请教一下  通常在W/L取值时,finger,W,mul 这三者的组合有哪些考量因素在里面?
以一个基本电流镜为例,上述四种组合似乎仅在电流镜管所偏置出的栅压阈值电压不同。孰优孰劣如何区分?或者说还有哪些其他考量?
image.png


感激不尽!

total width=1.2的不同组合

total width=1.2的不同组合
 楼主| 发表于 2021-3-24 17:13:56 | 显示全部楼层
 楼主| 发表于 2021-3-25 09:32:08 | 显示全部楼层
顶一下
 楼主| 发表于 2021-3-25 13:40:18 | 显示全部楼层
发表于 2021-3-25 20:29:41 | 显示全部楼层
本帖最后由 Huangshu 于 2021-3-25 20:40 编辑

新人来答一下,不对的请大佬指正。W越小,由于边缘效应的影响,有效Weff/设计Wdraw 越小。一般W选10倍最小线宽比较合适,选小了偏得比较厉害。finger和multi的区别就是寄生电阻用finger比multi小。

发表于 2021-3-26 13:42:11 | 显示全部楼层
理论上单管 L一定,总W不变,f或者m不管怎么调整,电器性能不会有太大变化,你这个变化太大肯定有问题
m和f对于mos在layout上是完全一样的,前仿这俩也没有差异
W一定,选m或者f值,最好是4的倍数,layout上布局最容易对称和调整,另外可以考虑offset来选较大的m或者f
 楼主| 发表于 2021-3-26 16:09:02 | 显示全部楼层


scvready 发表于 2021-3-26 13:42
理论上单管 L一定,总W不变,f或者m不管怎么调整,电器性能不会有太大变化,你这个变化太大肯定有问题
m和f ...


您好,改变W和改变finger仿真结果偏差不大。

偏差大的是改单管的w值。如 Wtotal=1.2um*1finger*1mul   和  Wtotal=0.12um*10finger*1mul 的仿真结果差别巨大
根源在于改变单管会使得vth产生较大偏差。


目前主要困惑点在于:
1,如何确定单管的w值?一般需要考率哪些因素?比如vth。(总W相同,单管w不同  造成的仿真结果差异巨大)
2,通常哪些情况下采用mul的方式要优于改finger?  目前看到的大都是直接改finger,似乎版图会更方便画

 楼主| 发表于 2021-3-26 17:58:11 | 显示全部楼层


scvready 发表于 2021-3-26 13:42
理论上单管 L一定,总W不变,f或者m不管怎么调整,电器性能不会有太大变化,你这个变化太大肯定有问题
m和f ...


仿真结果发现 改变 finger和改变mul对VTH造成的影响区别不大(total width保持不变)
而直接改W值(total width保持不变)时造成的vth影响巨大。
所以我的困惑在于:
做设计时候,W的取值(single W 而非 total width)应该考虑哪些因素?
 楼主| 发表于 2021-3-29 09:06:07 | 显示全部楼层
顶一下
发表于 2021-3-29 10:25:22 | 显示全部楼层


lizhengxuan 发表于 2021-3-26 17:58
仿真结果发现 改变 finger和改变mul对VTH造成的影响区别不大(total width保持不变)
而直接改W值(total ...


w对vt影响能有多大,基本可以忽略不计
你可以学习下gm id设计方法,就知道怎么设计w值了
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