IC设计中版图效应LDE用PeakView解决

rockyzpf · 发表于 2020-3-25 10:19:50

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Foundry在流片时，由于版图效应（LDE），最终加工的版图在尺寸和金属属性上会有偏差。偏差导致实测结果和EDA仿真结果有差异，所以设计阶段的EM仿真建模会不精准，增大流片失败风险。在先进工艺上，LDE问题更加显著。

在EM仿真建模中，如果EM仿真工具能考虑LDE问题，仿真验证就能更接近实测值。

Peakview仿真软件的配置文件中考虑了LDE，保证仿真精度更接近实测结果。在当前先进的工艺中，更能提升流片成功率。在一些7nm等先进工艺中，PDK信息是加密的，这种LDE信息已不能靠人工处理，peakview可以通过软件自动解析进行加载，为仿真工作带来精度保证和便利。

Peakview会识别PDK中的LDE信息，转换配置文件时以方块电阻变化表、线宽变化表映射LDE信息。仿真时peakview根据不同的设计尺寸来查表，调用实际的方块电阻和线宽值，确保仿真结果更接近实测值。

了解更多请加微信rockyzpf

newntcm · 发表于 2020-3-25 19:36:04

本帖最后由 newntcm 于 2020-3-25 19:37 编辑

加油！

sun029 · 发表于 2022-2-15 13:35:40

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