请教各位，关于匹配问题的取舍

register_623

各位大牛小牛，以下是我一位应我同事要求设计的匹配电阻。
描述：这是一串电阻链，中间部分是有用部分，红色线条框出的部分是用于做Dummy的电阻。两排的左右也添加了dummy，较为常见，所以我没有圈出来。

目前的情况：目前这个模块的面积相当紧张，这两个红色圈出的dummy的添加严重的浪费了面积。

我的态度和依据：我认为这两块dummy并没有重要到可以要面积为它做出让步的地步，尤其是这些DUMMY有可能会影响到芯片的整体面积。我的理由是在工艺端的主要影响应该是在SAB制作时的SAB横向边缘的不规则变化，所以我觉得只要左右添加dummy就可以了。

同事的态度和依据：同事认为电阻在刻蚀时看到上部和下部的氧化层不一样，例如第一行电阻，他离第二行的电阻近，所以下面的氧化层窄，上面的没有dummy的话吗，氧化层宽，所以在刻蚀的时候第一行电阻的氧化层刻蚀上下是不一致的，所以需要添加。

我是一个干了几年的小版图 ，只在小公司之间来回辗转，理论也是自己充电，没有接受过系统的理论培训，我的同事是一个非常牛逼的电路，他以前在外企，他说那个公司就这么加dummy。所以我想请教各位大牛，如何取舍的问题，希望能给一些理论依据，拜谢

maomao198477

按电路的要求来

蚊子咬后

没有十分的必要加那么大的dummy res。建议打两个孔，然后造一个假的dummy cell（去掉识别层，缩小尺寸）。对于匹配电阻，只要环境高度一致就好了。

peterlin2010

电阻 dummy  外围要围一圈不是只有 左右  , PROCESS 工艺上过程 旋转 ,  外围要围一圈 ,   但是 DUMMY 可以有个围一圈POLY  ,  比较好就 w窄电阻 , 你这版图上下电阻 L 都已经有缩 ,   

还有是那个工艺 ?  可以抽POSTSIM 吗?  有没MISMATCH MODEL
如果有, 那就上下缩更短, 左右电阻也缩W  抽POSTSIM 跑

电阻应该 HI_R  POLY  不是WELL .  N_Well 电阻问题比较大在POLY 下

一只电子实习生

你的上面的电阻是最小的么？上面的电阻也要加的原因是保证电阻在各个方向上的匹配，说明这个对这这个电阻的精度要求比较高，可以适当减小DUMMY RES 的阻值

jfxyl

上下要求高的话加点POLY方块就好了，没必要画成电阻

register_623

   

peterlin2010 发表于 2019-11-13 07:35
电阻 dummy  外围要围一圈不是只有 左右  , PROCESS 工艺上过程 旋转 ,  外围要围一圈 ,   但是 DUMMY 可以 ...

十分感谢您的回复，我会用后仿验证的。
在查看了几位的回复之后，我查阅了相关资料，确实是我错了，可能是因为我以前制作的时候这么做从来没有人说不对，也都符合性能的要求，我形成了不好的习惯和认知，会在以后改正，谢谢您的指点。

register_623

   

蚊子咬后 发表于 2019-11-12 22:46
没有十分的必要加那么大的dummy res。建议打两个孔，然后造一个假的dummy cell（去掉识别层，缩小尺寸）。 ...

十分感谢您的回复，我已经了解了我的错误，谢谢指点。

register_623

   

jfxyl 发表于 2019-11-14 18:11
上下要求高的话加点POLY方块就好了，没必要画成电阻

嗯，我看了，也问了一些，只要做成小块即可，谢谢。

register_623

   

jfxyl 发表于 2019-11-14 18:11
上下要求高的话加点POLY方块就好了，没必要画成电阻

收到，其实并不是电路的要求浪费面积，是我自己的设计浪费了面积，感谢你的回复。