集成电路版图设计教程2012版本

xiaojj2005 · 发表于 2019-1-14 10:23:11

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集成电路版图设计教程平装 – 2012年5月22日
曾庆贵 (作者), 姜玉稀 (作者)

本书系统讲述使用 Cadence 软件进行集成电路版图设计的原理、编辑和验证方法。

出版社: 上海科学技术出版社; 第1版 (2012年3月1日)
平装: 317页
语种：简体中文
开本: 16
ISBN: 7547810365, 9787547810361
条形码: 9787547810361
商品尺寸: 25.8 x 18.6 x 1.4 cm
商品重量: 522 g
品牌: 上海科学技术出版社
ASIN: B007NDJLOS

第1章半导体集成电路
1.1集成电路的发明和发展
1.2集成电路的分类
1.2.1按器件结构类型分类
1.2.2按电路功能分类
1.3集成电路制造过程
1.3.1设计
1.3.2掩膜版制造
1.3.3单晶材料
1.3.4芯片制造
1.3.5封装
1.3.6检测
1.4CMOS集成电路
1.4.1CMOS数字电路
1.4.2CMOS模拟电路
1.5集成电路制造工艺
1.5.1氧化
1.5.2光刻和刻蚀
1.5.3掺杂
1.5.4淀积
1.5.5接触与互连
1.5.6CMOS工艺的主要流程
1.6习题
第2章UNIX操作系统和Cadence软件
2.1UNIX操作系统基础
2.1.1有关目录的操作
2.1.2有关文件的操作
2.1.3文件存取权限
2.1.4命令处理
2.1.5使用vi
2.1.6LinUX简介
2.2Cadence软件
2.2.1EDA厂商简介
2.2.2Cadence软件概述
2.3电路图的输入和编辑
2.3.1建立新库
2.3.2电路图编辑窗
2.3.3电路图的输入
2.3.4电路图的层次化设计
2.4习题
第3章Virtuoso版图编辑器
3.1版图编辑器概述
3.1.1建立版图库和版图单元
3.1.2打开文件
3.1.3对层选择窗进行设置
3.1.4版图编辑窗
3.1.5使用Option菜单进行版图编辑窗设置
3.2版图的建立
3.2.1设置输入层
3.2.2屏幕显示画图区
3.2.3建立几何图形
3.2.4建立Instance
3.3版图的编辑
3.3.1设置层的可视性
3.3.2测量距离或长度
3.3.3图形显示
3.3.4选择目标
3.3.5改变图形的层次
3.3.6加标记
3.4习题
第4章CMOS数字集成电路版图设计
4.1M0S场效应晶体管的版图实现
4.1.1单个MOS场效应晶体管的版图实现
4.1.2MOS场效应晶体管阵列的版图实现
4.2版图设计规则
4.2.1概述
4.2.21.5μm硅栅CMOS设计规则
4.3CMOS数字电路基本单元的版图设计
4.3.1反相器
4.3.2传输门
4.4棍棒图
4.5CMOS数字电路版图设计实例
4.5.1异或门
4.5.2全加器
4.5.3无置位端和复位端的D触发器
4.5.4带复位端的D触发器
4.6版图设计方法概述
4.6.1版图设计方法
4.6.2层次化设计简介
4.7CMOS数字电路层次化设计实例
4.7.12输入多路选择器（mux2）
4.7.2SRAM单元及阵列
4.8常用版图设计技巧
4.9习题
第5章版图验证
5.1概述
5.1.1版图验证的项目
5.1.2Cadence软件的版图验证工具
5.1.3版图验证过程简介
5.2运行DivaDRC
5.3运行DraculaDRC
5.3.1验证步骤
5.3.2结果分析
5.4运行DraculaLVS
5.4.1LVS原理
5.4.2运行过程
5.4.3输出报告解读
5.4.4错误的纠正
5.5关于ERC
5.6习题
第6章版图验证规则文件的编写
6.1DivaDRC验证规则文件的建立
6.1.1DivaDRC规则文件简介
6.1.2层操作命令的图文解释
6.1.3DivaDRC命令
6.1.4DivaDRC规则文件的举例
6.2DraculaDRC规则文件
6.2.1Dracula规则文件的结构
6.2.2建立DraculaDRC规则文件
6.3建立DraculaLVS规则文件
6.4Dracula规则文件至Diva规则文件的转换
6.5习题
第7章外围器件及阻容元件版图设计
7.1特殊尺寸器件的版图设计
7.1.1大尺寸器件
7.1.2倒比管
7.2电阻、电容器及二极管的版图设计
7.2.1MOS集成电路中的电阻
7.2.2MOS集成电路中的电容器
7.2.3集成电路中的二极管
7.2.4CMOS工艺下的衬底PNP管
7.3CMOS集成电路的静电放电保护电路
7.3.1ESD攻击模型与测试方法
7.3.2ESD保护器件
7.3.3ESD保护电路
7.3.4全芯片ESD版图设计技术
7.4CMOS闩锁效应及其预防措施
7.5压焊块的版图设计
7.6电源和地线的设计
7.6.1电源和地线在外围的分布框架
7.6.2电源和地线在内部的分布
7.7习题
第8章CMOS模拟集成电路的版图设计
8.1模拟集成电路和数字集成电路的比较
8.2失配的概念
8.3MOS器件的匹配
8.4无源元件的匹配
8.4.1电阻的匹配
8.4.2电容的匹配
8.5寄生效应
8.5.1寄生电容
8.5.2寄生电阻
8.6噪声的防护
8.6.1衬底噪声
8.6.2金属导线之间的串扰
8.7版图布局
8.7.1版图布局的概念
8.7.2布局需要注意的问题
8.7.3版图布局实例
8.8运算放大器版图设计实例
8.9习题
第9章铝栅CMOS和双极集成电路的版图设计
9.1铝栅CMOS集成电路
9.1.1铝栅CMOS电路的结构
9.1.2铝栅CMOS集成电路版图实例
9.2双极集成电路
9.2.1双极晶体管的版图图形
9.2.2双极集成电路的版图设计原则和步骤
9.3双极集成电路版图实例
9.3.1五管单元与非门的设计
9.3.2A741型通用集成运放的版图设计
9.4习题
附录
附录A0.6μm工艺设计规则（0.6μmTechnologyTopologicalDesignRule）
附录B1.5bLm硅栅cMOSdivaDRC规则文件（1.5μmSi—GateCMOSdivaDRC.rul）
附录C1.5μm硅栅CMOSN阱单层多晶双层金属LVSDracula规则文件（1.5μmSi—GateCMOSNwellSPDMLVSDraculaFile）
附录D习题参考答案
参考文献