在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 2012|回复: 0

[求助] IO ESD 版图设计中contact数量 和metal宽度要求依据是啥,不借啊,求大神指点

[复制链接]
发表于 2017-9-15 09:21:42 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
请教各位,在ESD设计中会有contact数量和via数量要求具有100mA的电流能力(如图1),金属宽度要求20um,顶层金属要求3um(如图2),请问依据是什么呢?不解。
请大神留步指教,小女子不胜感激!

1、
Contacts and Vias should be used as many as possible, and at leastcapable of bearing 100mA DC current.

2、
Total width of each individual intermetal (M1~M8) lines of thenearest current path between ESD devices and bonding and bonding pad. (W220um)

ps: M1~M8 current density is 1.9mA/um.


FullSizeRender.jpg

您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-12-23 00:54 , Processed in 0.014872 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表