求助：转工艺后RF的器件lvs不认？？

逗比夫斯基 · 发表于 2017-9-11 17:33:22

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想问问上面报的warning都是什么意思？？要怎么解决？
我用的是dnw25od33_ckt_rf这个器件，是从TSMC转到SMIC工艺的，每个工艺层都能对应上，并且分别用TSMC和SMIC的这个器件run lvs的时候都能过，但是转了之后就不行了
求大神指点，蟹蟹！！

a345720726 · 发表于 2017-9-12 16:12:10

是不是lvs command file文件里的一些定义问题你可以查一下！

逗比夫斯基 · 发表于 2017-9-13 13:51:58

回复 2# a345720726

我看过了，应该不是这个问题，而且我用工艺库里调的器件run lvs都不会报错

roro_mm · 发表于 2017-9-14 15:10:29

“ 我用的是dnw25od33_ckt_rf这个器件，是从TSMC转到SMIC工艺的，每个工艺层都能对应上，并且分别用TSMC和SMIC的这个器件run lvs的时候都能过，但是转了之后就不行了” 这句话没看懂。什么叫分别都能过，分别如果用各自PDK原来的器件当然能过。转换是指layer mapping过去嘛？

我看warn提示 dnw_IO2_over_rf 这个层次是在LVS识别RF器件时候使用的，但是你转完以后它识别出错。所以两个工艺在器件定义的时候用的层次不一样。这是我猜的。

firewolf223 · 发表于 2017-9-15 17:50:15

肯定是你转错了呗，分别都能过，分别过不了那这两家就别干了。
肯定是定义的mark layer不一样

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