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发表于 2015-10-27 07:37:39
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其实,决定IO ESD 的强度是O 的面积,因为静电一般的放电路径上会有一个clamp voltage, 如NMOS 方面大多是breakdown voltage, 如果HBM 要过2KV, 那放电时,电流约为2A. 如果, NMOS breakdown 电压为5V. 那放电时,NMOS要承受的热为2Ax5V=10W. 如果,NMOS 面积过小,就会因为散热面积不够而烧毁。
而whole chip 的ESD 强度,除了IO本身的ESD 强度外,就是IC floor plan 是否正确。 Power clamping 就是提供规划floor plan 上用的。如果,IO 的ESD 有4KV, 那IC 的ESD 能否过4KV, 那就需要多放几个power clamping. |
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