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从晶片的生长到工艺集成,讲的非常详细,值得一看!目录: 
第一章      前言 第二章      晶体生长 第三章      实验室净化及硅片清洗 第四章      光刻 第五章      热氧化 第六章      热扩散 第七章      离子注入 第八章      薄膜淀积 第九章      刻蚀 第十章      后端工艺与集成 第十一章  未来趋势与挑战  |   
    
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                VLSI-02第二讲  晶体生长.ppt
                
             
            
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                VLSI-03第三讲  实验室净化与硅片清洗.ppt
                
             
            
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                VLSI-04第四讲  光刻(上).ppt
                
             
            
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                VLSI-05第五讲  光刻(下).ppt
                
             
            
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                VLSI-02第二讲  晶体生长.ppt
                
             
            
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                VLSI-03第三讲  实验室净化与硅片清洗.ppt
                
             
            
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                VLSI-04第四讲  光刻(上).ppt
                
             
            
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                VLSI-12第十二讲 薄膜淀积(上).ppt
                
             
            
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                VLSI-14第十四讲 刻蚀.ppt
                
             
            
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