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二氧化硅-硅界面分凝的模型

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发表于 2012-6-12 19:25:43 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我们要做一个在热氧化过程中二氧化硅和硅界面分凝现象的仿真,我使用Tcad的Athena工艺仿真器,通过diffuse工艺在掺杂衬底上氧化了一层二氧化硅,并提取了杂质的垂直分布。但是,问题是,我找不到关于界面分凝的模型,可以用来对仿真进行理论的分析。所以,请问有木有大神,可以给些指导,这个界面分凝的模型在哪可以找到?
发表于 2012-7-16 21:38:53 | 显示全部楼层
这是Physical Design的范畴么??
发表于 2013-1-4 23:13:46 | 显示全部楼层
貌似懂行的人不多啊
发表于 2014-12-8 16:13:47 | 显示全部楼层
是啊,这个软件用的专业限定范围很小
发表于 2016-3-25 13:45:28 | 显示全部楼层
我也在找segregation
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