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[原创] 请教:NMOS的衬底是在电路内部就近接地好 还是 在顶层单点接地好?

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发表于 2011-11-7 15:20:48 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请教:NMOS的衬底是在电路内部就近接地好 还是 在顶层单点接地好?
为什么?有啥区别?
发表于 2011-11-7 17:10:47 | 显示全部楼层
如果是模拟电路中的匹配NMOS,就近接地最好,实现开尔文连接结构。
接地拉得越远,寄生电阻越大,如果其他模块输出静态电流较大,作用在GND上的点位就相对高,对于匹配NMOS相当于一个小信号电压,这个电压会被NMOS自身增益放大成电流,造成适配比较严重。
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 楼主| 发表于 2011-11-7 17:49:35 | 显示全部楼层
请问 从衬底噪声的角度考虑 那一种好些?
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发表于 2011-11-8 12:46:28 | 显示全部楼层
觉得就近接地好,当然看你地怎么做的。。
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发表于 2011-11-9 11:37:45 | 显示全部楼层
方法1,以后做电路时做两块板,分别对应不同的接法,看哪个效果好。
方法2,按照paper上讲substrate noise的分析方法,做个等效电路,看看哪种效果好。
方法3,cadence似乎有衬底噪声分析的软件,不知道好用不。
希望你得到结果后给我们说一下哪种好。不过我个人感觉应该是case by case的。
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发表于 2011-11-9 11:39:48 | 显示全部楼层
回复 2# xiaowanzi88


    他说的是衬底,衬底的影响应该没那么严重,因为理论上流过的电流比source上小很多。
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