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[原创] 关于P+注入包围有源区的问题讨论

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发表于 2011-11-1 19:55:40 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在N阱中包围着P+注入,P+注入包围着有源区。在版图中,P+注入、N+注入是为了区分注入的导电类型。那在工艺中,P+注入这一在版图中的显示会制作成掩膜板吗?如果做的话,它在工艺中起什么作用呢?
请各位大侠,指导指导啊!!!
发表于 2011-11-2 14:44:08 | 显示全部楼层
给你推荐两本书 版图的艺术  半导体制造技术  你看看就知道了
发表于 2011-12-29 21:56:49 | 显示全部楼层
你不注入哪里来离子
发表于 2011-12-30 22:39:01 | 显示全部楼层
我也是新手,这个东西看看半导体工艺基础立马明了的
发表于 2011-12-31 17:54:27 | 显示全部楼层
当然有了

从mask来说, SP , SN 是分开的 2层mask,
比如smic的 198和 197(好像是,不记得了)

而且nwell和 pwell(通常是not nwell)也是有mask的 ,
high voltage nwell和 high voltage pwell也是,
发表于 2012-1-9 19:13:45 | 显示全部楼层
当然有掩模板啊。
如果没有这些注入,怎么形成不同的器件呢?读书才是王道,模拟电路版图的艺术好像还是一本不错的书。
发表于 2012-1-9 19:14:38 | 显示全部楼层
当然有掩模板啊。
如果没有这些注入,怎么形成不同的器件呢?读书才是王道,模拟电路版图的艺术好像还是一本不错的书。
发表于 2012-1-10 18:35:32 | 显示全部楼层
一般会做成mask
发表于 2013-5-12 13:34:08 | 显示全部楼层
学习了!
发表于 2015-12-10 13:11:19 | 显示全部楼层
离子注入需要掩膜板,因为要在选定的区域注入
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