CSMC 0.5um2p3m mixed signal工艺问题

wangweiww34 · 发表于 2009-10-13 16:19:52

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近来要流CSMC 0.5um2p3m mixed signal工艺，工艺库还存在一些问题，不知大家遇到过吗：
1.此工艺说是双井工艺，但是layout只有N-well层，据说CSMC的工程师说是p-well掩膜版取反，也就是说没有Nwell的地方全部是P-well，岂不是没有衬底的位置，有这样的工艺吗？还是我理解有问题；
2.打开库里提供的nmos，没有n+注入层，而pmos却有p+注入层；
3.spectra仿真加载不成器件model，这个需要手动吗？

，在这方面比较小白，有谁流过此工艺，或知道怎么解决得，请不吝赐教！

hejin1795 · 发表于 2009-10-13 17:39:05

电路设计用到具体的工艺时，遇到问题，最好和foundry 的工程师联系解决。

linuxwinner · 发表于 2009-10-15 17:34:39

1. pwell should be on top of p-sub
2. please send out the layout for more detail
3. please describe the error message from spectre

ivyjue · 发表于 2010-1-31 21:07:45

dingdingding

bhcsayx · 发表于 2010-9-29 00:40:56

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zhangfuquan · 发表于 2010-9-29 09:03:23

总和鉴定，小弟弟回家多练习吧

hahacq · 发表于 2010-11-28 17:55:23

学习中，一窍不通啊还

hszgl · 发表于 2010-12-5 21:09:30

按照工艺规则N+取的是P+的反版，在design rule的第三页有说明。

琴狂 · 发表于 2010-12-6 09:58:43

1. 現今的工藝不管是不是twin well 都是p-sub 在最下層當base
2. 應該都有注入diffusion
3. 有的pdk 需要手動

sanlingman · 发表于 2011-8-20 12:13:37

dingding

bhcsayx bhcsayx 当前离线积分 4050 头像被屏蔽	发表于 2010-9-29 00:40:56 \| 显示全部楼层提示: 作者被禁止或删除内容自动屏蔽
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