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楼主: minibe

请问:在电路设计中MOS和三极管有什么不同?分别怎么运用呢?

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发表于 2009-7-10 04:27:59 | 显示全部楼层
MOS is voltage controlled current source, while BJT is current controlled current source.  Since BJT uses current as the control component, BJT needs more charges, in turn longer time to get the desired operation.  But MOS needs to establish the reverse-layer first before it can perform as a current source, or in other words, MOS has a significant threshold voltage.  The capacitances in MOS (much larger than BJT's) could be changed dramatically at high frequencies, which limits the use of MOS in high frequency applications.  This is my HO.


发表于 2009-7-10 09:08:08 | 显示全部楼层
从功耗、频率上考虑吧
 楼主| 发表于 2009-7-10 09:24:36 | 显示全部楼层


原帖由 pipida 于 2009-7-10 04:27 发表
MOS is voltage controlled current source, while BJT is current controlled current source.  Since BJT uses current as the control component, BJT needs more charges, in turn longer time to get the desir ...



回答的好像有点矛盾啊。我知道MOS是电压驱动器件,BJT是电流驱动器件,你说MOS的栅电容要比BJT的大,MOS要工作必须要对电容充电使其达到反型,MOS可以在高频下被充满达到反型,然后又说不能在高频下应用?     “The capacitances in MOS (much larger than BJT's) could be changed dramatically at high frequencies, which limits the use of MOS in high frequency applications. ”这是怎么说呢?
发表于 2009-7-10 13:10:51 | 显示全部楼层


原帖由 minibe 于 2009-7-10 00:31 发表



为什么啊?由什么导致的呢?



因为Bipolar的Vov比饱和状态下MOS管的小很多
发表于 2009-7-10 16:33:36 | 显示全部楼层
我的理解是
MOS的主要电容:oxide(reverse layer)的电容+reverse biased的电容
BJT的主要电容:reverse biased的电容
MOS的充放过程很容易就比BJT的要长,即使MOS可以用先进的工艺,使尺寸可以变小,但实际上薄氧化层,高电场会使电容大致保持一个量级,
MOS的更多的寄生电容是高频电路比较忌讳的,通常需要额外的补偿措施,这也是MOS在高频应用中受限制的地方之一。
总之,在使用同样的工艺下,BJT一般是比MOS更快的,BJT的寄生电容效应小使其更多地被采用于高速电路中



原帖由 minibe 于 2009-7-10 09:24 发表


回答的好像有点矛盾啊。我知道MOS是电压驱动器件,BJT是电流驱动器件,你说MOS的栅电容要比BJT的大,MOS要工作必须要对电容充电使其达到反型,MOS可以在高频下被充满达到反型,然后又说不能在高频下应用?     “ ...

发表于 2009-7-10 21:22:49 | 显示全部楼层
Bipolar的1/f噪声要比MOS关小很多,在低噪声放大器中有应用
发表于 2009-7-11 08:00:27 | 显示全部楼层
BJT的BASE is much thinner than TOX of MOS
发表于 2009-7-11 08:23:34 | 显示全部楼层

我也来说说



原帖由 pipida 于 2009-7-10 16:33 发表
我的理解是
MOS的主要电容:oxide(reverse layer)的电容+reverse biased的电容
BJT的主要电容:reverse biased的电容
MOS的充放过程很容易就比BJT的要长,即使MOS可以用先进的工艺,使尺寸可以变小,但实际上薄氧 ...



同意这位同志的意见,我认为限制器件速度的因素有两点,一个是载流子迁移速度,一个是器件电容,BJT器件为电流型器件,对电流敏感,且载流子种类和数量都很可观,结电容非常小,故而可以达到很高的速度,MOS器件载现在的工艺下只有一种,并且电容很大,这导致充放电时间较长,所以频率受限
发表于 2009-9-30 18:26:37 | 显示全部楼层
呵呵!同问哦!
发表于 2009-10-6 04:55:59 | 显示全部楼层
Check Paul/Gray's book
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