65nm设计存在的新问题？

buel · 发表于 2008-11-1 10:23:50

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请问65nm工艺的变化有哪些？在设计的过程中需要注意哪些问题？
版图有哪些注意的地方？

dandan58 · 发表于 2009-1-16 15:24:36

次级效应的影响加剧。在设计时重点关注的有IR Drop，crosstalk，signal integrate。还有工艺实现中对on chip variation的考虑以及一些DFM的规则将更加严格

303034314 · 发表于 2009-1-17 01:48:31

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lwjee · 发表于 2011-5-8 20:40:20

没人回答了？

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