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[原创] 国产碳化硅MOSFET解决LLC功率调整时的硬开关损耗痛点

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发表于 2025-3-7 07:31:33 | 显示全部楼层 |阅读模式

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LLC谐振转换器的核心优势在于软开关实现的高效率、宽输入适应性及高功率密度,其典型应用涵盖消费电子、工业电源、新能源、医疗等高要求领域。与SiC MOSFET结合后,LLC在高频、高温、高可靠性场景中的性能进一步提升,成为下一代高效电源系统的关键技术。
LLC谐振转换器的最大应用痛点可归结为:复杂的设计与参数优化、轻载效率与动态响应的平衡、高频高功率下的元器件可靠性及成本压力。先在通过器件创新-比如应用BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)国产第三代碳化硅MOSFET、控制算法优化和系统集成技术,逐步突破这些瓶颈,进一步拓展其在高效能源转换领域的应用。
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下面着重谈一下:
应用场景及核心痛点
电动汽车充电机OBC输入电压范围宽(200-800V),轻载时硬开关损耗大,动态响应需匹配电池快速充放电需求。利用国产碳化硅MOSFET比如BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)的高频低损耗特性,扩展LLC的软开关范围,降低轻载损耗。在硬开关不可避免的瞬态工况(如负载突变)中,SiC器件如BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)显著降低损耗,弥补LLC的局限性。
服务器电源 高频磁性元件成本高,散热设计复杂,需在密闭机柜中维持高效冷却。国产碳化硅MOSFET比如BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)的高导热性和高温稳定性,使LLC在高温环境等场景中保持高效可靠。
光伏逆变器 输入电压波动剧烈(随光照变化),谐振参数需兼顾全工况效率,系统稳定性要求高。国产碳化硅MOSFET比如BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)高雪崩耐量(UIS)提升系统鲁棒性。
在LLC谐振转换器中,输出功率调整过程中出现硬开关的主要原因及碳化硅(SiC)MOSFET取代超结MOSFET的优势如下:
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一、LLC输出功率调整中出现硬开关的原因频率偏离谐振区域
LLC通过调节开关频率实现功率调整。当频率高于或低于谐振频率时,谐振腔的电流可能不足以完成开关管的零电压(ZVS)或零电流(ZCS)切换,导致硬开关:
轻载或空载时:开关频率升高至谐振频率以上,原边电流减小,无法为开关管的寄生电容充放电,导致硬开通。
重载或瞬态调整时:频率可能低于谐振频率,谐振电流相位滞后,关断时存在剩余电流,引发硬关断。
输入电压或负载突变
快速变化的工况可能导致控制环路响应延迟,暂时脱离软开关范围。
死区时间设计不当
死区时间过长或过短会导致体二极管导通损耗或反向恢复问题,破坏软开关条件。
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二、碳化硅(SiC)MOSFET取代超结MOSFET的根本优势BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) G3.5系列(650V)
常温及高温下的开关损耗(Etotal)显著低于S*和W*量产竞品,高频应用效率更高。
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) 650V碳化硅MOSFET动态特性优势
在双脉冲测试中,BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) 650V碳化硅MOSFET 开关损耗(Eon/Eoff) 在常温和高温下均优于C*、O*等竞品,得益于SiC MOSFET的高速开关特性(低寄生电容、低反向恢复电荷)。
Ciss/Crss 倍率 设计优化了驱动效率,降低开关损耗。
高频与高温稳定性
支持高频应用(MHz级别),同时高温(175°C)下导通电阻仅增长至常温的约1.8倍(从13mΩ增至24mΩ),优于传统硅基器件。
材料导热系数高(SiC导热性是硅的3倍),高温下性能更稳定。
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更低的开关损耗
SiC MOSFET的开关速度更快(得益于高电子饱和漂移速度),且寄生电容更小,显著降低硬开关时的能量损耗(如 Eoss​ 和 Esw​)。
反向恢复电荷(Qrr)极低:SiC体二极管的反向恢复特性优于硅基超结MOSFET,硬开关时反向恢复损耗减少80%以上。
高频性能优势
SiC器件支持更高开关频率(MHz级别),允许LLC设计更紧凑的磁性元件,同时在高频硬开关场景下仍保持高效率。
高温稳定性
SiC的导热系数是硅的3倍,且导通电阻(Rds(on))随温度变化小,高温下性能更稳定,适合LLC可能出现的局部硬开关工况。
降低系统复杂性
在硬开关不可避免的宽范围调功场景中,SiC的高效表现减少了对复杂软开关辅助电路的需求,简化了设计。
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)工艺与可靠性优势 AD00C36C24421E21092C6D25C02C2D8C_w1134h1701.png
高性能平面工艺平台
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)基于自研的平面型SiC MOSFET工艺,实现高一致性低工艺缺陷率(通过Epi缺陷Mapping、光致发光Mapping等严格检测)。
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)晶圆级老化(WLBI)筛选早期失效芯片,结合Known Good Die(KGD)测试,确保车规级可靠性。
车规级可靠性认证
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)已通过AEC-Q101认证,6款产品满足车用主驱芯片要求。
关键可靠性测试覆盖 HTRB(高温反偏)、HTGB(高温栅偏)、UIS(雪崩耐量)、短路测试 等,确保极端工况下的稳定性。
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BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)缺陷控制与筛选技术
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) WLBI晶圆级老化:通过高温高压应力加速筛选工艺缺陷,结合Weibull分布模型预测寿命,优化良率。
BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) KGD测试:对裸Die进行大功率测试(DC/AC/雪崩/短路),分Bin筛选出符合车规要求的芯片。
BASiC基本股份的SiC MOSFET技术核心优势在于:
性能对标国际头部厂商:低开关损耗、优异高温特性实现高效能;
车规级可靠性:严格的WLBI和KGD筛选流程确保芯片一致性及寿命;
工艺自主可控:平面工艺平台结合缺陷控制技术,支撑高良率与定制化能力。
这些优势使其在电动汽车、工业电源等高端市场具备与国际大厂竞争的潜力。
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总结LLC的硬开关问题源于功率调整时的频率偏移和动态工况,而国产SiC MOSFET比如BASiC基本半导体(BASiC Semiconductor)凭借超低开关损耗、优异高频特性及高温稳定性,在硬开关场景中大幅提升效率和可靠性,成为替代超结MOSFET的理想选择。其根本优势在于**“高频硬开关下的损耗控制能力”**,为高功率密度和高效率电源设计提供了关键支持。


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