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[讨论] 关于tsmc的OD2 layer

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发表于 3 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式

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OD2会参与well的逻辑运算?OD2不是oxide吗?看起来OD2也会影响WPE,难道和well是AND操作?
发表于 3 天前 | 显示全部楼层
会,以tsmc 180nm的bcd工艺为例,1.8V的NWELL和5V的NWELL参杂浓度是不一样的,在mask的制作过程中,NWELL和OD2交叠的区域进行逻辑与得出5V NWELL的mask,只有NWELL的区域为1.8V NWELL
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