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[求助] 对管二维共质心匹配

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发表于 2020-1-7 17:32:33 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请教:在对管严格匹配要求下,采用二维共质心匹配,下面那种形式才是共质心,匹配较好?为何?

MOS管A、B及Dummy
1:
DABBAABBAD
DBAABBAABD

2:
DABABABABD
DBABABABAD

发表于 2020-1-7 18:07:48 | 显示全部楼层
第一种可以共源漏,第二种不能共源漏,这个看你的需求,要怎么选。
不考虑连线影响,理论上我个人觉得第一种更好,是真正的“共质心”,实际上可能效果相差不大。
发表于 2020-1-7 18:16:08 | 显示全部楼层
个人意见,不推荐大家学我
我用差分对喜欢
DAABBAABBD
DBBAABBAAD
因为这样在我现在工艺上面后仿跑出来寄生要好一点  offset要小 其他工艺不知道
 楼主| 发表于 2020-1-7 19:36:29 | 显示全部楼层
是这样,原问题没说明白,这里A和B已经源漏共用了,A和B分别代表了各自的两个管子。

如果A、B表示一个MOS管且源漏共用的话两种选择应该是这样:
DAABBBBAAAABBBBAAD
DBBAAAABBBBAAAABBD

DAABBAABBAABBAABBD
DBBAABBAABBAABBAAD

哪种更合理?
发表于 2020-1-7 20:15:19 | 显示全部楼层
感觉第一种更合理
发表于 2020-2-14 11:10:36 | 显示全部楼层
根据工艺的不一样进行取舍吧
尺寸比较大第一种
我们现在的工艺尺寸比较小了,电路推荐使用第二种
发表于 2021-3-5 09:26:03 | 显示全部楼层
小工艺高速场景直接AB,去做共质心匹配的话,源漏的寄生侧壁电容太大了
发表于 2021-3-19 16:41:44 | 显示全部楼层
小工艺用AABBAABB这种应该好点 毕竟小工艺主要的失配体现在sti和wpe 将公共端放在边上更好 这样对管受到影响是一致的
发表于 2021-3-19 16:44:56 | 显示全部楼层


cxchust 发表于 2020-1-7 19:36
是这样,原问题没说明白,这里A和B已经源漏共用了,A和B分别代表了各自的两个管子。

如果A、B表示一个MOS ...


第二种C:\Users\ZHUWAN~1\AppData\Local\Temp\企业微信截图_16161433864092.png第一种这一组就不是共质心了
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