在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1924|回复: 3

[求助] 低电压系数的MOS电容底层极板为什么要重掺杂

[复制链接]
发表于 2015-6-30 11:33:37 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
ALLEN 35页上讲为了获得低电压系数的MOS电容,底层极板一定要重掺杂扩散。小弟不懂为什么要重掺杂?见图中N+底层极板注入。
MOS电容.bmp
发表于 2015-6-30 11:40:31 | 显示全部楼层
使耗尽层的宽度变小,这样在电压变化时就能减小耗尽层电容的影响
 楼主| 发表于 2015-6-30 14:03:10 | 显示全部楼层
这样做是不是有点像Native NMOS, 或者像耗尽型的NMOS,在栅极没有加电压时就有沟道形成,降低了阈值电压?
发表于 2015-7-1 08:48:40 | 显示全部楼层
回复 3# 渡渡


   跟耗尽管的处理方法类似。所以耗尽管很多时候用来做电容用,在很低的电压下电容不会下降太多。native跟这个是不一样的,native的沟道是没有进行掺杂,表现出来的特性接近耗尽管而已
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-17 12:51 , Processed in 0.019566 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表