工艺厂为什么要在版图上加很多dummy？

核桃树 · 发表于 2021-11-22 17:49:25

学习了~

SmallHAO · 发表于 2021-11-30 09:13:15

2021年来学习2014年的帖子

xutao8 · 发表于 2022-1-12 17:05:32

学习

yxmcgrady · 发表于 2022-1-27 15:14:51

Loading Effect: Photo/Etch工艺定义pattern时差异化降低，使设计尺寸可以尽量做到位；CMP工艺在磨大小不同的pattern速度差异，尤其大块区域磨的快，会出现凹陷，影响后续工艺

jugg.zhang · 发表于 2022-4-1 21:23:34

1.平衡CMP过程中的loading效应
2.平衡ETCH过程中的loading效应

sixz23 · 发表于 2022-6-4 16:07:06

为了uniformity更好，减少loading effect

Desimone · 发表于 2022-6-5 11:38:10

影响CMP的loading effect。
影响黄光的透光率，进而影响后续的蚀刻率
Fab 很多制程在iso,dense区的表现也会不一样，所以除非有特殊需求（比如说antenna区），一般建议加dummy

tvman2015 · 发表于 2022-10-25 14:29:06

为了使金属层在CMP抛光时的受力均匀，提高良品率

dmf336 · 发表于 2023-4-18 11:04:26

不错

[求助] 工艺厂为什么要在版图上加很多dummy？