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查看: 3719|回复: 7

[求助] csmcBCD05工艺

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发表于 2013-6-17 14:20:14 | 显示全部楼层 |阅读模式

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大家好!     有谁知道csmcBCD05的工艺,在做LOCOS时,用的mask是怎么得来的?

谢谢!
发表于 2013-6-17 14:44:00 | 显示全部楼层
不就是diffusion的mask吗
发表于 2013-6-17 17:21:27 | 显示全部楼层
回复 2# beckdavid

这位童鞋,如果是diffusion,那场氧如何起隔离作用捏?
发表于 2013-6-17 17:54:55 | 显示全部楼层
回复 3# 彤妍物语


    我觉得您是不了解diffusion这层MASK是干什么的?
diffusion是第一层出的MASK,它的反版就是为了做场氧
发表于 2013-6-17 18:24:35 | 显示全部楼层
ACTIVE 有源区
除了ACTIVE所在区域,其他都是场氧。
标准CMOS工艺流程里介绍的很清楚啊。
发表于 2013-6-17 18:40:25 | 显示全部楼层
回复 3# 彤妍物语


   人家二楼说的没错啊!
发表于 2013-7-24 14:35:27 | 显示全部楼层
二楼很强大~
发表于 2014-1-8 12:21:42 | 显示全部楼层
学习中,我是菜鸟!!
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