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90 nm 设计需要考虑的问题

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发表于 2005-11-9 09:01:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

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  朋友们:
  90 nm 设计需要考虑的哪些独特的问题啊, 相对于0.25 um 工艺来说。
  如何在90 nm 设计做到一次就成功?
  多谢多谢
  
发表于 2005-11-9 09:38:07 | 显示全部楼层

90 nm 设计需要考虑的问题

一次成功? 难啊,呵呵
主要是寄生影响的作用很大,漏电很大,制造与设计的误差较大吧?
理想与现实的差距变大,很多以前的经验公式不再适用了.
发表于 2006-8-23 10:57:52 | 显示全部楼层
net delay is >> cell delay,
Xtalk delay & noise
发表于 2006-8-23 19:58:02 | 显示全部楼层
看工具的帮助
发表于 2006-8-23 23:39:58 | 显示全部楼层
90ns现在应该问题不大了
 楼主| 发表于 2006-9-9 15:08:53 | 显示全部楼层
需要考虑串扰, 电压降, ON CHIP VARIATION等。
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