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发表于 2022-11-7 17:04:14 | 显示全部楼层
MBE效应类似与WPE效应,是一种临近效应。就是注入PP层和NP层在边界处的浓度比内部的浓度高。解决的办法:1.保持NP/PP边界的位置在器件的位置中是一致的(如都在器件中央),2.在边界处用CPO层Cut掉PO层。
CPO效应也是一直临近效应,在刻蚀Poly的时候,会对附近的poly造成影响。预防的方法就是:1.尽量保持CPO层远离critical器件 2. 保持CPO层与critial PO的距离一致。
Design Manaul上应该有介绍。
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