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[讨论] N阱和P阱多晶硅电阻的区别?使用方法讨论

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发表于 2017-4-14 08:57:04 | 显示全部楼层 |阅读模式

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poly Res,即多晶硅电阻,是我们IC设计中常用的一种电阻。它也具有两种不同类型的电阻:N plus和P plus。

请问哪位大神能说明一下这两种电阻的区别?

使用时,我常用N-well将整个电阻区覆盖上,并围上N tap,即给上电阻的VDD沉底点位(因为nwell隔离噪声比较好)。

那请问是否n+和p+两种电阻都能盖NWELL?给VDD沉底点位?至少目前我使用起来发现这两种不同类型电阻都盖nwell都没甚没问题。

发表于 2017-4-14 10:33:31 | 显示全部楼层
最近也很疑惑,p+poly注入了P+是有什么用
发表于 2017-4-14 14:00:49 | 显示全部楼层
POLY RES 下面用NW只是起到隔离衬底噪声的作用,在NW上面的POLY RES 加N+ 或者P+ 掺杂都可以,不同点就是N+和P+掺杂后的电阻率不一样,没什么其他的作用啊
 楼主| 发表于 2017-4-14 22:20:42 | 显示全部楼层
回复 3# fzu_physics


    但是我记得好像是28nm还是16nm的工艺,poly电阻的模型里面能够选择well类型,那不同的well类型对应的参杂类型不同。似乎好像有某种对应关系。
发表于 2017-4-17 20:07:06 | 显示全部楼层
温度系数不同
发表于 2021-7-6 21:13:04 | 显示全部楼层
学习
发表于 2021-12-9 09:58:46 | 显示全部楼层


请问一下哪种电阻的温度系数比较好
发表于 2022-1-6 11:21:15 | 显示全部楼层


fdy 发表于 2021-12-9 09:58
请问一下哪种电阻的温度系数比较好


我是一个designer 目前据我的了解 具体哪种电阻的温度系数较小 需要查看该工艺的文档 里面有说明该工艺下的各个电阻的温度系数大小
发表于 2022-9-26 14:43:23 | 显示全部楼层
学习了。。。
发表于 2022-9-28 00:31:18 | 显示全部楼层
学习中
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