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楼主: 小雷1994

[原创] 在virtuoso中不能打孔

[复制链接]
发表于 2017-5-26 09:43:23 | 显示全部楼层
比較像這個

symContactDevice(
; (name viaLayer viaPurpose layer1 purpose1 layer2 purpose2
;  w l (row column xPitch yPitch xBias yBias) encByLayer1 encByLayer2
legalRegion)
  (M1_Poly Contact drawing Poly drawing Met1 drawing
  0.22 0.22 (1 1 0.47 0.47 center center) 0.10 0.06 _NA_)
  (M1_Nwell Contact drawing Nisland drawing (Nselect drawing 0.02) Met1
drawing (Nwell drawing 0.53)
  0.22 0.22 (1 1 0.47 0.47 center center) 0.10 0.06 _NA_)
  (M1_Psub Contact drawing Pisland drawing (Pselect drawing 0.02) Met1 drawing
  0.22 0.22 (1 1 0.47 0.47 center center) 0.10 0.06 _NA_)
  (M2_M1 Via1 drawing Met1 drawing Met2 drawing
  0.26 0.26 (1 1 0.52 0.52 center center) 0.06 0.06 _NA_)
  (M2_M1_3x3 Via1 drawing Met1 drawing Met2 drawing
  0.26 0.26 (1 1 0.82 0.82 center center) 0.06 0.06 _NA_)
  (M3_M2 Via2 drawing Met2 drawing Met3 drawing
  0.26 0.26 (1 1 0.52 0.52 center center) 0.06 0.06 _NA_)
  (M3_M2_3x3 Via2 drawing Met2 drawing Met3 drawing
  0.26 0.26 (1 1 0.82 0.82 center center) 0.06 0.06 _NA_)
  (M4T_M3 Via3top drawing Met3 drawing Met4top drawing
  0.36 0.36 (1 1 0.71 0.71 center center) 0.06 0.3  _NA_)
  (M4T_M3_3x3 Via3top drawing Met3 drawing Met4top drawing
  0.36 0.36 (1 1 0.82 0.82 center center) 0.06 0.3  _NA_)
)
 楼主| 发表于 2017-5-26 09:46:21 | 显示全部楼层
回复 10# kevin_l
谢谢,你讲的很详细,确实如你所说,我还想问一下,能不能将孔设置成我想要的尺寸,保存下来,要不然每次调用改一遍感觉挺麻烦。这是我O键出来的对话框
U[Q97DFBR5]6P}E]@2MQA(F.png
发表于 2017-5-26 09:58:34 | 显示全部楼层
首先确定一下,你这应该是615版本的,这个版本还想保存不了自己设定的值,但是还有一个办法,就是你的孔CELL所在的库你是否有编辑权,如果有你可以修改孔cell的包孔,简单地说就是直接把基本库中的孔cell编辑一下达到你想要的效果,不知你是否能明白,如果不明白可以再问我
 楼主| 发表于 2017-5-26 16:33:11 | 显示全部楼层
回复 13# kevin_l

好的,谢谢,我明白了,还有两个问题要请教,一是我做LVS验证通过了,但是有这个ERC错误,这个是什么原因,可以忽略吗?因为它的ERC Results 是通过的,如果不能忽略,要怎么解决呢? 6DGFT93HA`NRC(FPW65DPXH.png 二是,做PEX参数提取时,提示这个错误,这是规则文件本身的原因吗?谢谢! ~]~OE5A]9$H5L]YP6VF8.png
发表于 2017-5-26 16:57:46 | 显示全部楼层
先回复你第一个问题,ERC(extraction rule check)
看到你的extraction results是通过的,所以你的ERC是不用关心的, 一般ERC有问题,会在这一项里面出现错误
第二个问题,先看他报出来的ERR,是说你的RES2没有定义,所以无法提取,也就是规则文件错误了
发表于 2017-5-26 17:07:19 | 显示全部楼层
另外你可以点击一下不通过的那个ERC看一下他是什么情况,如果可以修,你就修掉就完事了
 楼主| 发表于 2017-5-26 17:41:43 | 显示全部楼层
回复 15# kevin_l

谢谢,第二个问题,我将工艺中的所有XRC文件都试了一遍,都提示这个错误,不应该都有错啊?也试过将这句注释掉,结果又提示CAPACITANCE INTRINSIC PLATE ME1 MASK这一行有错误。 QQ图片20170526174413.png QQ图片20170526174224.png
 楼主| 发表于 2017-5-26 17:43:51 | 显示全部楼层
回复 16# kevin_l
EO2[]QNN$VXM`8H%]9U8T.png
EO2[]QN$7N$VXM`8H%]9U8T.png
发表于 2017-5-26 21:04:21 | 显示全部楼层
你先将read me文件中的内容看看,怎么说的
发表于 2017-5-26 21:09:16 | 显示全部楼层
erc的问题,你的nwell是不是浮空了?如果是那个是需要接到高电位的
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