关于蒙特卡洛分析的若干迷惑

taohuachangkai · 发表于 2014-11-7 20:09:22

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哪个大神能给讲解一下，蒙特卡洛仿真的流程。1、mc文件里边定义了些什么，那些管子的参数偏差能在.lib文件里边加入吗（如果没有mc文件的话）？是不是把原来的.lib里边Device模型中的参数，换成包含gauss分布函数的参数就行了？
2、如果1中方法可以的话，那在Hspice网表调用库的时候，是不是就仍然可以用TT等工艺角了（只让device参数按照高斯分布进行调用）？还是说mc的偏差已经考虑了极差工艺角变化以及工艺变化造成的各参数的变化？这样子，hspice只需在仿真时sweep多少次就可以了？而次数的多少通过alter命令不断sweep参数的命名即可？

其实，最大地疑惑是，现在没有mc文件，搞不懂hspice网表和网表调用的库文件里，关于device的高斯分布的model都分别描述了些什么，又是如何描述的，格式什么样子？仿真工具Hspice是不是自动识别gauss（a，b，c）函数的，且多次仿真，仿真工具取的device的值整体上也是按照高斯曲线按照概率在区间内自动取值的？

玉泉禅 · 发表于 2014-11-7 20:34:37

回复 1# taohuachangkai

65nm SMIC 工艺库，

hspice.rar (1.66 MB, 下载次数: 531 )

taohuachangkai · 发表于 2014-11-7 22:47:47

回复 2# 玉泉禅

many thx

taohuachangkai · 发表于 2014-11-7 22:55:23

回复 2# 玉泉禅

这样子给出库，不要紧吗

fly2159 · 发表于 2014-11-10 09:38:29

simic的库不是要签保密协议的吗？

coco_1991小蚂蚁 · 发表于 2014-11-11 09:37:11

楼主有没有蒙特卡洛分析浅显的文献啊~

qchunh · 发表于 2014-11-21 08:10:20

smic的蒙特卡洛库，可以通过修改其他工艺已有的蒙特卡洛库得到吗？
我也有这方面的疑问？
求高人解答

taohuachangkai · 发表于 2014-11-21 11:00:51

回复 7# qchunh

要用工艺库的mc文件不能通过修改已有的其它工艺mc文件得到。但是可以通过已有lib里边的ss和ff条件进行综合，自己写出mc文件，而变量就是ff或者ss或者tt工艺角子lib里提到的变量，偏差为ss或ff和tt对比得到的最大偏差，让这些偏差同时或分别取成高斯分布（按工艺流程的不同影响），然后用乘或者加的形式叠加到model内部参数上即可。

刹那红尘 · 发表于 2014-11-23 09:53:56

谢谢，希望有用

hktkzsw · 发表于 2014-11-23 19:42:44

可以参考已经有的lib改写下现有的lib

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