掩膜版共用问题

gao2004j · 发表于 2013-7-1 15:34:11

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请问：
半导体制造工艺中，做mos阈值电压调整的Vt调整注入用的掩膜板和多晶硅掩膜板是同一块掩膜版吗？谢谢！

fuyibin · 发表于 2013-7-1 15:49:13

回复 1# gao2004j

显然不是

gao2004j · 发表于 2013-7-1 15:51:54

不是同一层，那mos管阈值调整注入掩膜板对应我们作画版图上面是那层呢？

tuohong · 发表于 2013-7-1 21:29:58

不一定有。

heeda · 发表于 2013-7-2 00:17:18

你画的那层就那层

gao2004j · 发表于 2013-7-2 09:30:50

回复 4# tuohong

能不能说一下有什么工艺不做Vt阈值调整注入？或则在什么情况下不做阈值调整？目前还没遇到过不做Vt调整的工艺

谢谢啊！

gao2004j · 发表于 2013-7-2 09:30:55

回复 4# tuohong

能不能说一下有什么工艺不做Vt阈值调整注入？或则在什么情况下不做阈值调整？目前还没遇到过不做Vt调整的工艺

谢谢啊！

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