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[求助] 关于MOS的栅长和阈值电压的关系

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发表于 2011-6-22 11:14:09 | 显示全部楼层 |阅读模式

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最近看一篇论文,上面提到mos阈值电压和栅长的关系是栅长越长阈值越高,有点搞不清楚原因
向高手请教下两者之间的关系是怎样的?或者有什么资料讲到这些了?或者能提供下资料~
谢谢
发表于 2011-6-22 16:14:45 | 显示全部楼层
在razavi中文版478页,VTH随L的减小而变小。
但是在EECS240的lecture中,VTH随L的减小而增大。
发表于 2011-6-22 16:54:57 | 显示全部楼层
现在的MOS,VTH与L的关系不是单调的。
 楼主| 发表于 2011-6-22 17:08:38 | 显示全部楼层




    先谢谢了,我通过仿真得到的结果是vth随L的减小而增大,用的是smic0.18的工艺。今天看的论文中默认的是Vth随L的减小而变小,然后得到了一系列的结论。也没给参考依据。
现在到底是应该怎么理解这个东西呢?是正比趋势还是反比趋势呢?还是有条件限制的呢?
发表于 2011-6-22 18:40:49 | 显示全部楼层
影响阈值电压变化的因素很多   不能单看栅长   要全面考虑。。。
发表于 2011-6-22 18:46:47 | 显示全部楼层
可以看阈电压的完整表达式就知道了
发表于 2011-6-23 09:57:54 | 显示全部楼层
在EECS240 lecture中,随着L的增大,VTH是先上升,然后下降,其中有考虑到holo作用。
发表于 2011-6-23 13:40:09 | 显示全部楼层
这个需要具体问题具体分析了 影响的因素不是单一的
 楼主| 发表于 2011-6-24 17:41:04 | 显示全部楼层
回复 7# helianalog


    谢谢~
发表于 2011-6-24 17:54:10 | 显示全部楼层
回复 4# cc1405


    按照DIBL效应VTH是随L增大而增大的,但是现在的小尺寸工艺中一般都会采用halo结构,这样VTH和L的关系就不是那么确定了,有时候甚至随L增大而减少了
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