国产光刻机取得重大技术突破 半导体环境建设迎来又一春？

广州澳企

9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外）五大类。

此次入选推广目录的氟化氩光刻机，应属于干式ArF光刻机。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCANNXT：1470以及TWINSCANXT：1460K类似。

按照市场监管总局等5部门于今年4月联合印发的《中国首台(套)重大技术装备检测评定管理办法(试行)》，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备，是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

在探讨国产光刻机技术发展的背景下，广州澳企研发的高精密洁净舱无疑为这一领域注入了新的活力与技术支持.广州澳企一成果不仅体现了我国企业在高科技制造领域的深厚底蕴，更为中国半导体产业的创新发展提供了强有力的支撑。该洁净舱以其卓越的环境控制能力，为光刻机等高端电子设备的研发与生产提供了理想的工作环境，推动了行业技术水平的整体提升。

在高精密洁净舱的环境下，这一技术设施对于氟化氪和氟化氩光刻机等高端电子专用设备的研发、生产及测试过程起着至关重要的作用。随着《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的发布，以及国产光刻机技术的不断提升，高精密洁净舱的需求和应用也将迎来新的发展机遇。

光刻机，尤其是氟化氩等高精度光刻机，对工作环境中的尘埃颗粒、温度、湿度、振动等因素有着极为严苛的要求。高精密洁净舱通过精密的空气过滤系统、温湿度控制系统以及先进的自研技术，为光刻机提供了一个近乎无尘、恒温恒湿、低振动的理想操作环境。这种环境能够最大限度地减少外部环境对光刻精度的影响，确保生产出的芯片质量达到实验人员理想中的标准。

高精密洁净舱作为半导体制造领域的关键基础设施之一，其发展与光刻机等高端装备的研发生产紧密相连。随着国产光刻机技术的提升和市场应用的拓展，对高精密洁净舱的需求也将持续增长，从而带动相关产业链上下游企业的协同发展。从材料供应、设备制造到系统集成、运营维护等各个环节都将迎来新的发展机遇，共同推动中国半导体产业向更高水平迈进。

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