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file:///C:/DOCUME%7E1/ADMINI%7E1/LOCALS%7E1/Temp/moz-screenshot.jpgfile:///C:/DOCUME%7E1/ADMINI%7E1/LOCALS%7E1/Temp/moz-screenshot-1.jpg$ynopsys 发布下一代布局布线解决方案——IC Complier 2007.03 版。该版本在运行时间、容量、多角/多模优化（MCMM）等方面有所提高，而且具有改进的可预测性，可显著提高设计人员的生产效率。
同时，新版本还推出了支持正在兴起的45纳米技术的物理设计。
IC Compiler 2007.03引入了用于快速运行模式的新技术，在保证原有质量的情况下使运行时间缩短了35%。新技术将16 Gb平台的容量增加到接近1,000万门，有助于用户实现更大的模块划分。该版增加了集成的、层次化的设计规划的早期介入，有助于用户高效处理一亿门级的设计。提高生产能效的另一个关键在于物理可行性流程，它能够使用户迅速生成和分析多次试验布局，以确定具体实现的最佳起始值。
IC Compiler 2007.03为高级设计引入了自适应性MCMM优化技术，能够在保持精度水平相同的情况下，实现更快的运行速度、更小的内存需求。IC Compiler为设计提供了多角/多模，实现了真正的并行优化。这些用户不能承受其他布局布线工具连续优化对时序安排的影响，或接受低精度技术融合。高级设计也可受益于目前已经提供的IC Compiler签核驱动时序收敛。
对于新兴的45纳米设计，IC Compiler 2007.03可为前沿用户提供45纳米布局及布线设计规则早期支持，并满足光刻和与化学机械抛光（CMP）有关的金属一致性的需求。目前，Synopsys正在与全球主要半导体厂商合作，为45纳米设计的采用提供生产支持。与90纳米和65纳米设计一样，Synopsys的物理部署解决方案率先启动了45纳米的流片
[ 本帖最后由 flatman 于 2009-4-29 06:44 编辑 ] |
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发表于 2009-4-22 10:13:06
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