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查看: 311|回复: 5

[求助] ESD测试VIA1融化会使M1融化吗

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发表于 2024-11-26 11:38:03 | 显示全部楼层 |阅读模式

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ESD测试:
  测试现象以及原因:VIA1个数不足,ESD测试时发现
    1)VIA1融化;
    2)两条接不同电位的M1之间连接在一起。

求助问题:VIA1不足会使M1融化吗,两条M1之间间隔有1um,如果M1会融化,那么融化时会使两条M1接在一起吗?

发表于 2024-11-26 11:50:22 | 显示全部楼层
这个问题不大。
发表于 2024-11-26 14:04:22 | 显示全部楼层
看你的描述像让我想到了工艺制造书上关于电迁移的现象,电流过大,引起了金属电迁移现象,也就是你说的金属融化,进而导致金属短路,应该不止接触孔过少导致,上层金属下来的电流过大,接触孔不够,M1的宽度也不够,所以过电流能力没达到要求,个人想法哈
 楼主| 发表于 2024-11-27 15:13:16 | 显示全部楼层


Quinn714 发表于 2024-11-26 14:04
看你的描述像让我想到了工艺制造书上关于电迁移的现象,电流过大,引起了金属电迁移现象,也就是你说的金属 ...


嗯嗯,看起来确实和电迁移现象比较像,上述描述的两条M1,其电压差就是ESD两个PAD之间的压差,这个时候电场应该是很大的。
发表于 2024-11-29 13:55:09 | 显示全部楼层
看两条M1线路间是导通还是绝缘,绝缘的情形下,线路受到高静电场的持续作用机会发生金属离子迁移,发生ESD话,放电路径上就会分布金属粒子构成桥接。这种在FPD的几个um的photomask上就会发生
 楼主| 发表于 2024-12-3 15:35:16 | 显示全部楼层


copper_hou 发表于 2024-11-29 13:55
看两条M1线路间是导通还是绝缘,绝缘的情形下,线路受到高静电场的持续作用机会发生金属离子迁移,发生ESD ...


感谢大佬回答
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