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查看: 1894|回复: 9

[求助] lvs时,版图器件被识别成了另一个器件

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发表于 2021-9-18 20:59:33 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我在进行LVS时,有一个电容是自己用skill代码写的,在进行LVS时,原理图中识别到了这个器件,但是版图中被识别成了TSMCN65库中的电容了,原理图识别是正常的,我再source added里面也加上了自己的器件,并且LVS时带入了。请问这个问题怎么解决
发表于 2021-9-21 01:50:01 来自手机 | 显示全部楼层
看看是否少了电容的识别层
发表于 2021-9-21 11:14:07 | 显示全部楼层
应该是seed定义有重复的部分,一个器件的seed包含于另一个器件的seed就会造成这种情况
 楼主| 发表于 2021-9-22 21:14:39 | 显示全部楼层


carter_jim 发表于 2021-9-21 11:14
应该是seed定义有重复的部分,一个器件的seed包含于另一个器件的seed就会造成这种情况 ...


是的,我画的pcell和原有的有相同的识别层。但是我们用的pin的名称不一致,参数名也不一致,怎么能让它正确识别呢?
发表于 2021-9-23 09:30:14 | 显示全部楼层


Yu_Meng 发表于 2021-9-22 21:14
是的,我画的pcell和原有的有相同的识别层。但是我们用的pin的名称不一致,参数名也不一致,怎么能让它正 ...


pin,参数名不会影响LVS device识别,要区分两个device,他们的seed必须互斥才行,你可以新增一层layer用来识别你自己的器件,然后将tsmc的device的seed排除你的设置的layer,这样两者seed互斥就不会识别错误了
发表于 2021-9-23 09:34:21 | 显示全部楼层


Yu_Meng 发表于 2021-9-22 21:14
是的,我画的pcell和原有的有相同的识别层。但是我们用的pin的名称不一致,参数名也不一致,怎么能让它正 ...


pin,参数名不影响lvs device 识别,要区分不同device需要两者的seed互斥,你可以新增一层layer用于你的device,然后将tsmc的device seed not 你新增的layer,这样两者seed互斥,就不会识别错误了
发表于 2021-9-25 17:56:05 | 显示全部楼层


carter_jim 发表于 2021-9-23 09:34
pin,参数名不影响lvs device 识别,要区分不同device需要两者的seed互斥,你可以新增一层layer用于你的d ...


请问seed层是什么呢

发表于 2021-9-26 09:44:02 | 显示全部楼层


这样的人 发表于 2021-9-25 17:56
请问seed层是什么呢


对mos管而言指的是gate
DEVICE mn ngate poly(g) ndiff(s) ndiff(d) psub(b) NETLIST MODEL nmos
发表于 2021-9-26 14:10:14 | 显示全部楼层
这个和你的LVS文件有管,因为你LVS文件里面这个器件对应的层次提出来就是电容,
 楼主| 发表于 2021-9-28 10:55:12 | 显示全部楼层


carter_jim 发表于 2021-9-23 09:30
pin,参数名不会影响LVS device识别,要区分两个device,他们的seed必须互斥才行,你可以新增一层layer用 ...


好的,感谢
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