ASML below 14nm EUV Lithography (EUV 光刻设备)

sinowarrior · 发表于 2019-10-21 17:04:50

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sfliu · 发表于 2019-10-21 20:12:18

多谢楼主，分享超棒的资料，感谢

sinowarrior · 发表于 2019-10-22 06:42:01

14nm以下的光刻是中国最薄弱的区域。没有这样的国内产品。国内产品仅适用于90nm光刻。有必要呼吁国家努力开发这种设备。光刻是集成电路制造中最困难也是最重要的方面

limuyue123 · 发表于 2019-11-12 15:56:15

多谢楼主

xuetianci · 发表于 2019-12-22 19:40:39

谢谢楼主分享

dwangli · 发表于 2020-4-9 23:21:10

感谢分享，好好学习，天天向上

pancs · 发表于 2020-4-13 13:58:03

多谢楼主

KINGLYWAY · 发表于 2020-6-7 08:26:04

gooooooooooooood

J_YL · 发表于 2021-12-22 09:19:02

谢谢

liangmin11 · 发表于 2021-12-23 21:12:19

[资料] ASML below 14nm EUV Lithography (EUV 光刻设备)