在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1941|回复: 5

[求助] MOS dummy的L一定要和器件L一样大吗 ,L可以小一些吗??????

[复制链接]
发表于 2017-9-7 14:25:57 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
MOS dummy的L一定要和器件L一样大吗 ,L可以小一些吗??????
发表于 2017-9-7 15:04:53 | 显示全部楼层
可以的
发表于 2017-9-7 15:38:45 | 显示全部楼层
大工艺问题不大 小工艺可能有sti效应的影响 希望离边界远点。比较重要的mos 还是希望一样
发表于 2017-9-7 15:44:05 | 显示全部楼层
可以小一些,但是宽必须一样
发表于 2017-9-8 11:58:21 | 显示全部楼层
可以小些
发表于 2017-9-9 08:57:51 | 显示全部楼层
不需要!dummy是为了保持刻蚀时候一致性,sti或者wpe在阱边缘再考虑
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-24 19:18 , Processed in 0.015988 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表