在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
EETOP诚邀模拟IC相关培训讲师 创芯人才网--重磅上线啦!
查看: 7316|回复: 2

[求助] 版图多电源问题求助

[复制链接]
发表于 2013-9-27 09:18:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
大神们好!!!    小弟遇到多电源问题,在版图中使用深N阱隔离,但是加深N阱后后仿带隙基准起振,去掉就正常。我现在将深N阱包围的地方用PUSB2标识层换掉,LVS和后仿真正常。
   请问大神们这样可不可以?我们用的是tsmc工艺!
    非常感谢大家能帮帮我!!
发表于 2013-11-19 14:32:09 | 显示全部楼层
期待回复
发表于 2013-11-20 11:07:34 | 显示全部楼层
LVS正常和后仿真正常应该不是一回事儿吧。
请问用的是TSMC哪个工艺,在TSMC有的工艺PDK里,DNW NMOS是单独一种类型的,如果电路直接用NMOS而版图用DNW,LVS是不会对的。简单说就是说版图电路应该用同一种类型的器件。
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-4-26 19:38 , Processed in 0.030553 second(s), 11 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表