菜鸟求教，问个关于LPNP的Wb的问题

lbz053273 · 发表于 2017-4-12 10:28:01

工艺文件会给出横向PNP的基区的绘制宽度，这个绘制宽度，是不是不能修改的？

xxmule · 发表于 2017-4-12 12:03:17

库里面有这个器件没有，有就不用改；
或者问问设计人员看尺寸有没有要求

回复 1# lbz053273

lbz053273 · 发表于 2017-4-12 16:25:46

本帖最后由 lbz053273 于 2017-4-12 16:27 编辑

回复 2# xxmule

我在《The Art of Analog Layout》这本书上看到这样一句话：”横向PNP管的β值同以下5个因素有关，发射注入效率，基区掺杂，基区复合率，基区宽度，以及集电极效率。除了最后2个因素之外，其他因素都在版图设计者的控制范围之内“
为什么基区宽度不在版图设计者范围之内的？
工艺方提供的design rule里面都规定了Wb的大小，那我要用到该PNP时，是不是不能改变Wb的大小的？
比如Wb=12um，我增大了发射极的直径，但是Wb的大小还是要以12um来画这个LPNP。

xxmule · 发表于 2017-4-13 10:30:39

版图设计者只能控制你画的面积大小，其它的好像控制不了哦。

你可以同你的设计人员还有foundry厂沟通一下这个问题

回复 3# lbz053273

fzj1992130 · 发表于 2017-4-13 20:49:41

COMS工艺？改PNP?

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