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[求助] 关于非矩形沟道mos的有效沟道宽度

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发表于 2018-11-7 08:13:31 | 显示全部楼层 |阅读模式

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20181107_080727.jpg 20181107_080435.jpg
像图中这种135°转折的沟道,在lvs提取时沟道宽度有效值时,是怎么计算的?
Lvs文件中的公式如下:
W=TRUNC(width*10e7)/10e7 - weffect*BENDS(nmos_gt)*L
在图中这种135°沟道的情况下weffect应该是多少?
发表于 2018-11-7 09:31:36 | 显示全部楼层
没研究过这个问题,先mark一下
话说LVS从layout抽出来的这几根管子的width是多少啊,是不是还是diffusion的宽度啊?
 楼主| 发表于 2018-11-7 09:54:41 | 显示全部楼层
回复 2# 账户已登录
公式中的width是指gt和diffusion相切的边的长度,所以本身width的数值会比diffusion的宽度稍微大一些。Nuvoton这边给的lvs文件里weffect的默认值是1,这样的话修正后的W会比diffusion的宽度小。感觉有点不太合理。
发表于 2018-11-26 14:42:12 | 显示全部楼层
w=poly与aa两边交界面相加/2
L=poly与AA重叠面积/w
没记错的话以前umc的算法是这样
发表于 2018-12-31 18:00:54 | 显示全部楼层
这种斜角的部分得画成一致的,千万不要随意,不然LVS头大
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