版图的问题

heqizheng · 发表于 2012-5-13 11:11:52

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版图中NWELL到有源区的距离为什么不一样，比如到P+的有源区和N+的有源区，以及内外包含都不一样。是不是跟什么电位有关？

zikelee · 发表于 2012-5-13 21:30:10

不同注入，不同掩模版，距离应该也不同吧。

heqizheng · 发表于 2012-5-14 01:08:08

回复 2# zikelee

同一种内外之间的距离也不一样？

fuyibin · 发表于 2012-5-14 01:26:56

当然有可能不一样，一个是well里的注入，一个是psub上的注入，你跟design rule较什么汁啊，犯得着么

zikelee · 发表于 2012-5-14 17:10:35

回复 3# heqizheng

没明白你所说的同一种内外不同是什么意思。

heqizheng · 发表于 2012-5-14 20:59:24

回复 5# zikelee

就是NWELL到它阱内部P+的有源区域到阱外部P+的有源区距离也不一样。

piao · 发表于 2012-5-15 00:40:32

如果想理解这个的话,建议去学习一下器件物理

zikelee · 发表于 2012-5-15 09:49:06

回复 6# heqizheng

哦，但是这个距离一个是nwell内的p+注入，一个是p-sub上的p+注入，是不同的。

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