在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
EETOP诚邀模拟IC相关培训讲师 创芯人才网--重磅上线啦!
查看: 2486|回复: 6

[资料] POL过流保护时,峰值采样和谷值采样时的区别

[复制链接]
发表于 2010-4-9 15:16:13 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
过流保护时,通常我们对电流峰值进行采样。但有些芯片是采样电流谷值。其中的区别,本文进行了讨论。没有很定量的分析,但是根本原因指出来了。

power_valley_design_techniques.pdf

936.91 KB, 下载次数: 88 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

发表于 2010-6-20 14:54:32 | 显示全部楼层
Wonderful! Thank you guy.
发表于 2010-6-21 13:20:06 | 显示全部楼层
good!!!!!
发表于 2010-7-13 23:28:49 | 显示全部楼层
Wonderful!
发表于 2010-7-14 21:15:25 | 显示全部楼层
good good
发表于 2010-7-15 13:09:37 | 显示全部楼层
Thanks a lot!
发表于 2010-8-5 12:52:49 | 显示全部楼层
ddddddddddddddddddddddd
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条


小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-12-21 00:52 , Processed in 0.058814 second(s), 10 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表