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标题: Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology [打印本页]

作者: flamingo123 时间: 2024-12-19 08:53
标题: Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology
Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology (Dongkai Shangguan)

上官东恺，男，国际知名电子制造及绿色电子专家。1984年获清华大学工学学士、1988年获牛津大学材料学博士。
  曾任美国福特汽车公司高级技术专家和先进电子制造主管。
  华中科技大学讲座教授。
  现任伟创力国际公司技术副总裁、IEEE会士、CPMT学会董事。
  曾获国际制造工程师学会（SME）授予的”电子制造卓越奖”和“杰出青年制造工程师奖”、印制线路板协会（IPC）“总裁奖”等。
  出版2本专著，发表了250多篇论文，拥有21项美国及国际专利。

作者: yfanny1980 时间: 2024-12-19 09:41
谢谢分享，下载学习

作者: omnik 时间: 2024-12-19 10:01
gooooooooooood

作者: im.leo 时间: 2024-12-19 11:24
多谢分享多谢分享多谢分享

作者: waveguides 时间: 2024-12-19 12:20
楼主辛苦了

作者: jiangnaner 时间: 2024-12-19 17:10
感谢，我也是想要的

作者: zlhrsy 时间: 2024-12-19 20:21
kankanxian

作者: dcircuit 时间: 2024-12-19 21:20
kankan

作者: icroad 时间: 2024-12-22 03:37
多谢分享

作者: 313949724 时间: 2024-12-22 15:39
谢谢

作者: penjpding 时间: 2025-4-13 20:23
非常好！！感谢！！

作者: tu_yjq123 时间: 2025-5-3 20:52
多谢分享。。

作者: yeap 时间: 2025-5-20 14:50
谢谢分享

作者: thomas_gui 时间: 2025-8-28 08:36
谢谢分享

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