lijie5992373 发表于 2019-10-8 10:02 IR drop和EM最好在TT做, 这俩和器件的corner 没关系,device corner只影响IC的速度。 ...
wlmwxm 发表于 2021-4-13 16:50 我们也是在 ff 125 下,28nm leackage 影响很大的