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标题: 求助:layout在lvs中能pass,在pex不能pass。 SMIC [打印本页]

作者: buckaroo    时间: 2013-11-11 18:02
标题: 求助:layout在lvs中能pass,在pex不能pass。 SMIC
本帖最后由 buckaroo 于 2013-11-12 10:43 编辑

大家好,
鄙人用SMIC的工艺画的layout,calibre提寄生时,比如一个finger 80,每个finger w=8um, l=6um的MOSFET,pex抽取出来居然是80个w=0.1um, l=6um的MOSFET!!!也就是说,本来是8*80=640um的device,结果变成了0.1*80=8um的device
这是为什么,崩溃的SMIC!请问这是什么原因,头大,一直解决不了。
100分求大侠帮忙,再追加100分。

问题解决:presim的w total超过smic的model,所以把把一个大finger改成了2个小finger并且m=2,pex后它又自动抽成一个大finger了!!!这就导致超出model范围无法仿真,smic真是烂
作者: 思奇    时间: 2013-11-11 18:02
LVS和RC虽然用同一个rule,但是里面有语句选择开关。
你试试不加hcell,打平了跑试试。
作者: keenkeen    时间: 2013-11-11 18:27
LVS文件要加载XXX.rules.rc,其实LVS在你提取参数的时候不过也没关系,看下是否是可以忽略的错误就行了。
作者: pph_cq    时间: 2013-11-12 09:03
同意LS,不同的开关选择不同的执行语句,仔细看看rule
作者: buckaroo    时间: 2013-11-12 09:03


同意LS,不同的开关选择不同的执行语句,仔细看看rule
pph_cq 发表于 2013-11-12 09:03




  主贴已经说过了。。。lvs和pex file都是一样了,只是pex file我在lvs file的基础上include了那3句话。
作者: buckaroo    时间: 2013-11-12 09:05


LVS文件要加载XXX.rules.rc,其实LVS在你提取参数的时候不过也没关系,看下是否是可以忽略的错误就行了。
keenkeen 发表于 2013-11-11 18:27




再次钻研,发现把VDD和GND那些填项统统按照schematic里填好,pex的lvs也能过了。但是第二个问题依旧
作者: lightcoming    时间: 2017-7-7 10:46
回复 5# buckaroo


    想问一下是哪三句话




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