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标题:
Stanford 大学工艺培训课程
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作者:
suk.qi
时间:
2011-7-20 15:30
标题:
Stanford 大学工艺培训课程
本帖最后由 suk.qi 于 2011-7-20 15:48 编辑
主要是stanford大学的培训课程,包含了Cu制程的各个要点。
Gate_Dielectric (EOT ~ 20% TOX, Id∝Q_V, Oxide degrading Mechanism).pdf
Gate_Dielectric (SiO2 - SiON in NH3_N2O_NO, high~K).pdf
IBM_Silicides_Mann.pdf
Interconnection Silicides (same as polycides - salicides and metal gate).pdf
Interconnections -Copper & Low K Dielectrics (low RC delay, good EM, T↓t↑Gsize↑rho↓u↑).pdf
Interconnections -Copper & Low K Dielectrics.pdf
Low Power CMOS Process Technology (SS-leak, SiON, μ-Strained Liner, Hybrid Orientation, Wf, BTB, Halo, MG, SOI, FinFET, k~2.4, Tcap).pdf
Polycides, Salicides & Metal gate (segregation, diffusion and consumption).pdf
Scaling trends for the on-chip power modeling (Interconnection, Logic, Memory, Leakage and clock).pdf
Trends (α-scaling, Nanoscale, High-k, DG-FinFET, Isolation, Backend 3-D).pdf
TSUPREM4_Slides.pdf
USING TSUPREM-IV IN SWEET HALL.pdf
Integrated circuit isolation technologies.pdf
Future Devices (Heterostructure_DG MOSFET_Center Channel DG-FET, HEMT, I-MOS) - 3.pdf
Future Devices (Organic FETs,Molecular FET, Schottky SD Nanotube FETs) - 2.pdf
Future Devices (UTPDSOI, Non Planar MOSFETs, GeMOS - u3900, Egmin -Ileak_high) - 1.pdf
Interconnect Al (Mechanical properties, EM
minimized@GB
, Air-Gap).pdf
Interconnect Low k (weak polarization - nonpolar low-dielectric, minimize the moisture, Porous Materials).pdf
Interconnect Scaling (Multilayer, HF - Skin Effect, Delay, Resistivity, Thermal, Low-k).pdf
Shallow Junctions Slides (OED_ORD_TED, I↑V↓,defect ED in POLY several times faster, PAI, Bandgap Engineering, cl0_d0).pdf
Report of Lab activities (NMOS processing & simulation).pdf
GateOxNO_Kwong.pdf
GateOx_Schuegraf.pdf
NitOx_Kwong.pdf
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作者:
mypcbok01
时间:
2011-7-20 20:52
非常感谢
作者:
zain
时间:
2011-7-20 21:21
顶下来看看先
作者:
basildy
时间:
2011-7-21 10:17
作者:
zhull
时间:
2011-7-21 11:15
Good, thanks.
作者:
fixit
时间:
2011-7-22 22:13
学习学习
作者:
ssrickyhuang
时间:
2011-7-24 08:02
ddddddddddddd
作者:
ssrickyhuang
时间:
2011-7-24 08:11
ddddddddd
作者:
ssrickyhuang
时间:
2011-7-24 08:17
ddddddddddddddddddddd
作者:
ssrickyhuang
时间:
2011-7-24 08:19
ddddddddddddddddddddddd
作者:
iyahsue
时间:
2011-8-12 14:22
GOOOOOOOOOOOOOOOOOD
作者:
hei123
时间:
2011-10-7 11:00
多谢斑竹分享资料。
作者:
henrylxq
时间:
2014-9-21 12:29
好东西,谢谢
作者:
sky2city
时间:
2014-9-24 09:45
学习了.........................
作者:
colinwang
时间:
2014-9-24 11:03
谢谢分享
作者:
小概率事件1983
时间:
2014-10-5 09:01
感谢分享!
作者:
bdeepesh
时间:
2017-2-24 19:19
thank u...guys.....
作者:
ptespojay
时间:
2017-11-8 19:32
Good, thanks.
作者:
mustafa16
时间:
2017-11-9 04:11
thanks
作者:
joshuacp
时间:
2017-11-9 05:54
Good.
作者:
rnysun
时间:
2017-11-12 21:27
thanks
作者:
qmax
时间:
2017-11-13 08:51
tks tks
作者:
m7188
时间:
2017-11-25 00:27
thanks
作者:
gsvgsv
时间:
2018-3-13 08:47
thanks
作者:
tu_yjq123
时间:
2018-8-29 07:20
多谢分享
作者:
igolaps
时间:
2025-9-8 18:57
thanks
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