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bianhuakai0 · 发表于 2018-5-1 21:21:57

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求助各位使用过calibre软件的patterning match功能，我想用这个功能建立library，但是在给图形添加约束时我发现我想添加的边在这里没有，我该怎么操作呢？我想给e2边加约束条件

bianhuakai0 · 发表于 2018-5-1 21:24:42

自顶不沉

firewolf223 · 发表于 2018-5-2 08:37:33

把你的pattern 发上来看下。
你确定e2 是条边吗

bianhuakai0 · 发表于 2018-5-2 17:31:06

回复 3# firewolf223

我技术不太好，e2是加黄色高亮的那条边。

bianhuakai0 · 发表于 2018-5-2 17:31:55

回复 3# firewolf223

抱大佬大腿

bianhuakai0 · 发表于 2018-5-2 17:43:55

回复 5# bianhuakai0

大佬大佬，我大概捋了一下自己的工作应该是这样的问题_看图王.png

您要是有空能不能指导一下我？

firewolf223 · 发表于 2018-5-3 09:00:16

回复 4# bianhuakai0

你highlight 的边应该是贴到cell boundary了，这个边是不能加constraint的。

firewolf223 · 发表于 2018-5-3 09:04:13

回复 6# bianhuakai0

你说的是double pattern的DRC check。这个不需要pattern match的方法。
SVRF 里已经提供了double pattern check 的命令。
这部分DRC 确实是比较难写的。还有个multi pattern 的manual 你用calibre 17年以后的版本都会提供的

bianhuakai0 · 发表于 2018-5-3 15:40:53

回复 8# firewolf
哦哦，谢谢大佬啦！

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